根据需要，我校现采购三靶全自动磁控溅射沉积系统一套，现邀请符合条件的供应商参加本次采购活动。

一、项目名称及编号

项目名称:三靶全自动磁控溅射沉积系统采购

项目编号：HNU19001-1-ZC

二、项目简要说明

本项目采购三靶全自动磁控溅射沉积系统一套，主要用于制备多种半导体薄膜、化合物薄膜、以及介质膜、合金膜等，并可实现对薄膜的掺杂与组分调控，进一步拓展功能性薄膜材料的物理特性及开展相关原型器件研究。具体详见磋商文件第一章第四部分采购需求。

三、响应人应当具备下列资质要求

1、本项目响应人须具备如下资质要求：

（1）具有独立承担民事责任能力；

（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度；

（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力；

（4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录；

（5）参加本次采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录；

（6）法律、行政法规规定的其他条件；

（7）本次项目不接受联合体供应商参加磋商。

2、拒绝符合下述条件的供应商参加本次采购活动：

供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得同时参加同一合同项下的采购活动。（在磋商现场填写书面承诺）

说明：本次磋商采用资质后审方式，在整个采购过程中，由采购人对响应人的资质进行审查，若发现响应人的资质条件不符合竞争性磋商文件要求，可取消其磋商或成交资格。

注:资质审查时要求提供的资格证明文件详见磋商文件第二章第五部分。

四、其它详情

请点击链接查看淮阴师范学院招标采购网的详细公告（http://ztb.hytc.edu.cn/info/1057/2546.htm）。

淮阴师范学院招投标办公室

2019年01月09日