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三靶全自动磁控溅射沉积系统采购公告
来源: 时间:2019年01月09日 08:16   点击数:

根据需要,我校现采购三靶全自动磁控溅射沉积系统一套,现邀请符合条件的供应商参加本次采购活动。

一、项目名称及编号

项目名称:三靶全自动磁控溅射沉积系统采购

项目编号:HNU19001-1-ZC

二、项目简要说明

本项目采购三靶全自动磁控溅射沉积系统一套,主要用于制备多种半导体薄膜、化合物薄膜、以及介质膜、合金膜等,并可实现对薄膜的掺杂与组分调控,进一步拓展功能性薄膜材料的物理特性及开展相关原型器件研究。具体详见磋商文件第一章第四部分采购需求。

三、响应人应当具备下列资质要求

1、本项目响应人须具备如下资质要求:

(1)具有独立承担民事责任能力;

(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度;

(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力;

(4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录;

(5)参加本次采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录;

(6)法律、行政法规规定的其他条件;

(7)本次项目不接受联合体供应商参加磋商。

2、拒绝符合下述条件的供应商参加本次采购活动:

供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得同时参加同一合同项下的采购活动。(在磋商现场填写书面承诺)

说明:本次磋商采用资质后审方式,在整个采购过程中,由采购人对响应人的资质进行审查,若发现响应人的资质条件不符合竞争性磋商文件要求,可取消其磋商或成交资格。

注:资质审查时要求提供的资格证明文件详见磋商文件第二章第五部分。

四、其它详情

请点击链接查看淮阴师范学院招标采购网的详细公告(http://ztb.hytc.edu.cn/info/1057/2546.htm)。

淮阴师范学院招投标办公室

2019年01月09日

(作者:董启标 审核:蒋明华)

本文来源:责任编辑:董启标

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编辑:董启标